| 研究会 
 | 2020年第1回ナノインプリント技術研究会 
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                        | 日程 | 2020年2月7日(金) 受付12:30- 研究会講演会 13:00-16:40
 
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 会場
 | 産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館 11F会議室 江東区青海二丁目4番7号
 
 交 通    新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分 東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分 
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                        | 申込 方法
 | 会員の皆様には12月13日にご案内を送らせて頂きましたので、届いていない場合は事務局へお知らせください。 またご参加頂く場合は、お手数ですが下記の申込みフォームからお申込みください。申込みフォームが使用出来ない場合は、E-mail:info@nanoimprint.jpへ御名前と御所属をお知らせください。締め切らせて頂きました。
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 プログラム
 | 13:00-13:50 多層・多段階インプリントおよび面内圧縮を用いた多様な パターニング
 津守 不二夫(九州大学)
 
 13:50-14:40
 ナノ構造付自由形状金型を用いた微細成形技術による機能性デバイス開発
 栗原 一真(産業技術総合研究所)
 
 14:40-15:00  
コーヒーブレイク
 
 15:00-15:50
 半導体向けナノインプリントリソグラフィ技術
 小寺 克昌(キオクシア)
 
 15:50-16:40
 ナノインプリントを用いたバイオミメティクスの製品適用
 宮崎 真理子(日立製作所)
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