日時 平成22年7月30日（金） 13:00-17:30
 場所 弘済会館　4階「会議室：楓」
東京都千代田区麹町5-1（TEL: 03-5276-0333）　　　
JR総武線・中央線・営団地下鉄丸の内線「四ツ谷駅」下車　徒歩5分
プログラム 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会共催
2010年度第2回ナノインプリント技術研究会

①. 13:00-13:45
　　「EIPBN 2010国際会議報告（ナノインプリント関連）」
　　　　　　　　廣島　洋（産業技術総合技術研究所）　　　　　　　　　　　　　　　
②. 13:45-14:30
　　「EIPBN 2010国際会議報告（電子・イオンビーム関連）」
　　　　　　　　佐本　典彦（日本電子（株））　　　　　　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

③. 14:30-15:15
　　　「ＡＳＮＩＬ（アジアンナノインプリントリソグラフィ）国際会議報告」
　 　　　　　　　平井　義彦(大阪府立大学）　　　　　　　　　　　　　　　　　　

15:15-15:30 Coffee Break

④. 15:30-16:15
　　　「蛍光レジストによるナノインプリント転写評価」
　　　　　　　　　中川　勝（東北大学）　　　　　　　　
⑤. 16:15-17:00
「超微細高加速125kV電子ビーム描画装置ELS-F125」
　　　　　　　　　土田　智之（（株）エリオニクス）

⑥. 17:00-17:30　　　　
　　　　　　　　　総合討論
   
 
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