研究会
2019年第3回ナノインプリント技術研究会
日程 2019年9月6日(金) 受付12:30-
研究会講演会 13:00-16:40

会場 産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館 11F会議室
江東区青海二丁目4番7号

交 通   
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分

申込
方法
今回の研究会は会員の方のみ参加が可能です。
会員の皆様には7月26日にご案内を送らせて頂きましたので、届いていない場合は事務局へお知らせkださい。またご参加頂く場合は、お手数ですが下記の申込みフォームからお申込みください。申込みフォームが使用出来ない場合は、E-mail:info@nanoimprint.jpへ御名前と御所属をお知らせください。





プログラム
13:00-13:15 
EIPBN報告 平井委員長(大阪府大)

13:15-14:05 
半導体量産化に向けたナノインプリントリソグラフィの進捗
  安延 蔵 (キヤノン)

14:05-14:55 
SRMによるR2Rナノインプリントの現状
  岡田 真 (旭化成)

14:55-15:10  Coffee Break

15:10-15:40 
スパッタリング薄膜メンブレンの作製プロセス開発と応用利用
  大井 秀雄 (協同インターナショナル) 

15:40-16:20 
精密なものづくりで先端技術に貢献する
  赤羽 優子 (ティ・ディ・シー)
 
 

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