公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会
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研究会
2011年度第2回ナノインプリント技術研究会
荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第195回研究会
日程 6月17日(金)  13:00-17:00  受付 12:20〜
会場 弘済会館 4階・会議室「菊」
東京都千代田区麹町5-1 (TEL: 03-5276-0333)   
JR総武線・中央線・営団地下鉄丸の内線「四ツ谷駅」下車 徒歩5分
参加方法 ナノインプリント技術研究会会員及び132委員会のみ参加可。





プロ
グラム
1. 13:00-13:40
  「EIPBN 2011国際会議報告(ナノインプリント関係)」
    松井 真二(兵庫県立大学)

2. 13:40-14:20
  「EIPBN 2011国際会議(ビームテクノロジー関係)」

   
 安田 雅昭(大阪府立大)

3. 14:20-15:00
  「電子ビーム描画によるロールモールドの作製」
    谷口 淳(東京理科大学)
 
15:00-15:20 休  憩
 
4. 15:20-16:00
  「LEDの動作原理」
    波多腰 玄一((株)東芝)              
 
5. 16:00-16:40
  「LED発光素子表面への微細構造形成用
  ロールツロールナノインプリント装置」
    西原 浩巳(東芝機械(株))

6. 16:40-17:00
  総合討論




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