研究会
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2011年度第3回ナノインプリント技術研究会
高分子学会 光反応･電子用材料研究会共催
「ナノインプリント用材料とプロセス技術」
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| 日程 |
11月18日（金） 13:00-16:50 受付 12:00〜 |
| 会場 |
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室１
（東京都江東区青海二丁目4番7号4-2-2 電話：03-3599-8001）
交 通
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
（http://unit.aist.go.jp/waterfront/ 参照） |
| 参加方法 |
ナノインプリント技術研究会会員は無料。
会員の方には、メールでご案内致します（9月20日予定） |
プロ
グラム |
1. 13:00〜13:50
ナノインプリントプロセスの物理化学とシミュレーション
平井 義彦（大阪府立大学）
2. 13:55〜14:45
ナノインプリント用材料に関して
嶋谷 聡（東京応化工業）
3. 15:05〜15:55
丸善石油化学のナノインプリント樹脂
池田 照代（丸善石油化学）
4. 16:00〜16:50
ペンタフルオロプロパン(PFP)を用いた光ナノインプリント
廣島 洋（産総研）
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趣旨 |
ナノインプリント法は、半導体微細加工において、EUV、ブロック共重合体リソグラフィーと伴に次世代のリソグラフィー技術として期待されています。また、その手法の簡便さから、ハードディスク、ディスプレイ、さらには生体適合材料などの加工へ応用が拡大しつつあります。ナノインプリント法が提案されてから15年ほどが経過し、当研究会においてもこれまでに個々の話題としては取り上げてきましたが、まだ材料、プロセスとも黎明期であったために主題として企画するには至りませんでした。しかし、ここ数年、産学官全ての領域から多くの研究者がナノインプリントに参入し、材料・プロセスとも大きな進展が見られました。こういう現状を踏まえ、本研究会では、ナノインプリント法に携わっている第一線の講師の先生方を産学官の領域からお招きして、材料・プロセス・シミュレーションなどの最新の成果と今後の課題をご講演頂く研究会を企画いたしました。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。 |
