公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会
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研究会
2012年度第5回ナノインプリント技術研究会
日程 2013年2月15日(金)  13:10-17:05  受付 12:20-





会場
東京工業大学 蔵前会館1F ロイアルブルーホール
東急大井町線 目黒線 大岡山駅徒歩1分
http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html
参加方法 会員のみ参加可能。会員の方には、メールでご案内致しました。(1月10日)














プログラム
13:10-14:40 国際会議報告

(1) 13:10-13:40
MNE 2012 国際会議報告(30分) 
  平井 義彦(大阪府立大学) 

(2) 13:40-14:10
NNT 2012 国際会議報告(30分)
  廣島 洋(AIST)

(3) 14:10-14:40
MNC 2012 国際会議報告(30分)
  横尾 篤(NTT)

  14:40-15:00 休憩

15:00-17:05 国際会議トピックス紹介

(4) 15:00-15:25
Reduction in Viscosity of Quasi-2D-Confined Nanoimprint Resin through the Addition of Fluorine-Containing Monomers: Shear Resonance Study(25分) 
  島崎 譲(日立製作所)

(5) 15:25-15:50
UV-curable Resins Suitable for UV-NIL on Pentafluoropropane (25分)
  中川 勝(東北大学)

(6) 15:50-16:15
Uniform Residual Layer Creation in UV Nanoimprint using Spin Coat Films (25分)
  廣島 洋(AIST)

(7) 16:15-16:40
Fabrication of Nano and Micron Size Mixture Patterns by Edge Lithography (25分)
  川田 博昭(大阪府立大学)、平井 義彦(大阪府立大学)

(8) 16:40-17:05
Continuous nanoimprint on a polymer sheet by in-situ formation of release layer (25分)
  荻野 雅彦(日立製作所)


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