研究会
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2012年度第5回ナノインプリント技術研究会
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| 日程 |
2013年2月15日（金） 13:10-17:05 受付 12:20- |
会場 |
東京工業大学 蔵前会館1F ロイアルブルーホール
東急大井町線 目黒線 大岡山駅徒歩1分
http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html |
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| 参加方法 |
会員のみ参加可能。会員の方には、メールでご案内致しました。（1月10日） |
プログラム |
13:10-14:40 国際会議報告
(1) 13:10-13:40
MNE 2012 国際会議報告(30分)
平井 義彦（大阪府立大学）
(2) 13:40-14:10
NNT 2012 国際会議報告(30分)
廣島 洋（AIST）
(3) 14:10-14:40
MNC 2012 国際会議報告(30分)
横尾 篤(NTT)
14:40-15:00 休憩
15:00-17:05 国際会議トピックス紹介
(4) 15:00-15:25
Reduction in Viscosity of Quasi-2D-Confined Nanoimprint Resin through the Addition of Fluorine-Containing Monomers: Shear Resonance Study(25分)
島崎 譲（日立製作所）
(5) 15:25-15:50
UV-curable Resins Suitable for UV-NIL on Pentafluoropropane (25分)
中川 勝（東北大学）
(6) 15:50-16:15
Uniform Residual Layer Creation in UV Nanoimprint using Spin Coat Films
(25分)
廣島 洋（AIST）
(7) 16:15-16:40
Fabrication of Nano and Micron Size Mixture Patterns by Edge Lithography
(25分)
川田 博昭（大阪府立大学）、平井 義彦（大阪府立大学）
(8) 16:40-17:05
Continuous nanoimprint on a polymer sheet by in-situ formation of release
layer (25分)
荻野 雅彦（日立製作所） |
