公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会
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研究会
2012年度第2回ナノインプリント技術研究会共催
荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会
第201回研究会 開催通知
日程 6月15日(金)  13:00-17:30  受付 12:20〜
会場 弘済会館4F会議室「菊」
http://www.kousaikai.or.jp/kousai/access.html

東京都千代田区麹町5-1 (TEL: 03-5276-0333)   
JR総武線・中央線・営団地下鉄丸の内線「四ツ谷駅」下車 徒歩5分
参加方法 ナノインプリント技術研究会会員は無料。
会員の方には、メールで5月24日にご案内をお送りします。











プログラム
1. 13:00-13:45
  「EIPBN 2012国際会議報告(ナノインプリント関連)」
  谷口 淳 (東京理科大学)          

2. 13:45-14:30
  「EIPBN 2012国際会議報告(電子・イオンビーム関連)」
  松井 真二 (兵庫県立大学)
            
3. 14:30-15:15
  「走査プローブ顕微鏡によるナノインプリント評価」
  岡田 真 (兵庫県立大学)            

  15:15-15:30  休  憩

4. 15:30-16:15
  「ダブルパターニングの最新動向」
  八重樫 英民 (東京エレクトロン(株))         

5. 16:15-17:00
  「集束ガスイオンビーム装置の開発とマスクリペアへの応用」
  八坂 行人 (エスアイアイ・ナノテクノロジー(株))   

6. 17:00-17:30  総合討論



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