研究会
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2012年度第4回ナノインプリント技術研究会
高分子学会 光反応･電子用材料研究会
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| 日程 |
11月14日（水） 13:00-16:50 受付 12:20-
お手数ですが、産総研の1F受付で、御名前・御所属をお伝えしてご入館ください。 |
| 会場 |
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室１
（東京都江東区青海二丁目4番7号4-2-2
電話：03-3599-8001）
交 通
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
（http://unit.aist.go.jp/waterfront/ 参照） |
| 参加方法 |
ナノインプリント技術研究会会員は無料。
会員の方には、メールでご案内致します |
プログラム |
1. 13:00-13:50
自己組織化・自己集合プロセスを用いたナノ構造体の形成と機能発現
藪 浩（東北大学）
2. 13:55-14:45
ナノインプリントによる表面改質とバイオデバイスへの応用
宮内 昭浩（日立製作所）
3. 15:05〜15:55
Design Considerations for UV-NIL Resists
下畠 孝二（富士フイルム）
4. 16:00〜16:50
印刷法によって作製するバイオセンシングデバイス
牛島 洋史（産総研）
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| 開催趣旨 |
ナノインプリント技術は、半導体微細加工において、EUV、ブロック共重合体リソグラフィーとともに次世代のリソグラフィー技術として期待されています。また、その手法の簡便さから、ハードディスクやディスプレイ、さらには生体適合材料などの分野へ応用が拡大しつつあります。今回は、生物/植物の持つ構造や仕組み・形状などを、工業製品に応用する生物模倣技術、すなわちバイオミメティクスに関する研究や製品展開への関心が急速な盛り上がりを見せている現状を踏まえ、“ナノインプリント技術とバイオミメティクスの接点”と題する研究会を企画しました。ナノインプリント技術とバイオミメティクスの両領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方を産学官からお招きして、最新の成果と今後の課題をご講演頂きます。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。 |
