研究会
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2013年度第5回ナノインプリント技術研究会
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| 日程 |
平成26年2月14日 （金） 午後 13:00-16:55 受付: 12:30- |
| 会場 |
場所： 神田情報オアシス北スペース3F オアシス4
JR神田駅北口、西口より徒歩3分
http://www.jo-kanda.com/map/map.html
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| 申込方法 |
今回の研究会は、ナノインプリント技術研究会会員のみ参加可能です。
会員の方には1月17日にご案内をお送り致しました。
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プ
ロ
グ
ラ
ム |
＜プログラム案＞
13:00-13:30 MNC 2013 国際会議報告
横尾 篤（NTT）
13:30-14:30
CREST成果報告
超高速ナノインプリントリソグラフィ技術のプ
ロセス
科学と制御技術の開発
松井 真二（兵庫県立大）、廣島洋（産総研）、平井義彦（大阪府大）、中川勝（東北大）
14:30-14:40 休憩
14:40-15:25
タイトル：TBD
山口 徹（NTT）
15:25-16:10
光エネルギー局在形態に基づいた高分解能光計測技術の開発
高橋 哲（東京大）
16:10-16:55
ナノ塑性加工による金属ナノラメラ多孔体製造の試みと電子ビーム積層造形の可能性
小泉 雄一郎（東北大）
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