研究会
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2014年度第2回ナノインプリント技術研究会
高分子学会 光反応･電子用材料研究会
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| 日程 |
日程：平成26年10月2日 （木） 午後 13:00-16:55 受付: 12:30-
お手数ですが、産総研の1F受付で、御名前・御所属をお伝えしてご入館ください。
直接エレベーターで11Fへお越しください。 |
会場 |
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室１
（東京都江東区青海二丁目4番7号 電話：03-3599-8001）
交 通
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
（http://unit.aist.go.jp/waterfront/ 参照） |
| 参加方法 |
ナノインプリント技術研究会会員の方には、9月上旬にメールでご案内致しました。
お申込みは下記のフォームからお申込みください。（募集を締め切らせて頂きました。） |
プ
ロ
グ
ラ
ム |
13:00〜13:50
EIPBN2014およびMNE2014国際会議報告
平井 義彦
（大阪府立大学）
13:55〜14:45
熱ナノインプリントによるガラスやポリマーなどの非晶質材料への原子レベルパターニングと工学的応用
吉本
護（東京工業大学）
15:05〜15:55
レーザアシストローラナノインプリント
長藤
圭介（東京大学）
16:00〜16:50
ワイヤグリッド偏光フィルム（WGF）製造におけるRtoR
UVナノインプリントプロセス
生田目 卓治 （旭化成イーマテリアルズ）
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参加
申込み |
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開催
趣旨 |
ナノインプリント技術は、高分子微細構造の形成技術として、低コスト大量生産やプロセス・装置簡略化による費用削減の利点を有しているばかりではなく、従来のフォトリソグラフィーにおける光の回折限界の制約を受けないことから、極限的な微細構造を形成する手法としての可能性も有しています。そこで今回は、「高分子微細構造形成の極限と機能化を目指したナノインプリント技術」と題する研究会を企画しました。高分子材料の関連したナノインプリント技術の領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方をお招きし、ナノインプリント技術関連国際会議（EIPBN2014およびMNE2014）参加報告も兼ねた最新の成果と今後の課題をご講演いただきます。多くの皆様のご参加をお待ちいたしております。 |
