研究会
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2013年度第4回ナノインプリント技術研究会
高分子学会 光反応･電子用材料研究会
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| 日程 |
11月15日（金） 13:00-16:50 受付 12:20-
お手数ですが、産総研の1F受付で、御名前・御所属をお伝えしてご入館ください。 |
| 会場 |
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室１
（東京都江東区青海二丁目4番7号4-2-2
電話：03-3599-8001）
交 通
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
（http://unit.aist.go.jp/waterfront/ 参照） |
| 参加方法 |
ナノインプリント技術研究会会員は無料。
会員の方には、メールでご案内致します |
プログラム |
13:00〜13:50
1．NNT2013国際会議報告
岡田 真（兵庫県立大学高度産業科学技術研究所）
13:55〜14:45 2．光で操るナノインプリントリソグラフィ
久保 祥一（東北大学多元物質科学研究所）
15:05〜15:55 3．光による液体・固体相変化材料
則包 恭央（産業技術総合研究所）
16:00〜16:50 4．「高分子科学」×「3Dプリンタ」の可能性
古川 英光（山形大学大学院理工学研究科）
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| 開催趣旨 |
昨今のプリント技術は新しい材料や技法の創製・改良により、従来の枠にとらわれない多岐にわたる分野へと応用・発展しております。なかでも、光反応が関与するプリント技術は微細構造をより簡便な手法で作製することが可能となったり、印刷物の２次元媒体から３次元媒体への進化などにおいて、重要な役割を果たしております。そこで今回は、「光が操る“反応・ナノインプリント・３Dプリント技術”による高分子微細構造の形成と新機能」と題する研究会を企画しました。プリント技術と光反応材料の両領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方をお招きし、ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議（NNT2013）参加報告も兼ねた最新の成果と今後の課題をご講演いただきます。多くの皆様のご参加をお待ちいたしております。 |
