研究会
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2013年度第2回ナノインプリント技術研究会
高分子学会 高分子基礎物性研究会共催
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趣旨 |
ナノインプリント技術は、半導体微細加工のみならず、磁気記録媒体、ディスプレイ、生体適合材料など様々な分野へ応用が拡大しつつあります。その成形対象は、熱可塑性高分子、熱硬化性高分子、エンプラ、光硬化性樹脂など多岐に渡りますが、高分子成形加工の基礎となる高分子の基礎物性を理解することが、非常に重要となってきています。本講演会では、主としてナノインプリントを深く理解するために、高分子のレオロジーならびに成形加工の基礎、また、表面や界面等の束縛場におけるレオロジーについて、基礎物性を中心に話題を提供していただきます。高分子物質のレオロジー制御にご興味をお持ちの方はもちろん、ナノインプリントをこれから始めよう、さらに深いところまで考えようという方のご参加をお待ちしております。 |
| 日程 |
7月12日（金） 13:00〜16:45 受付12:30〜 |
| 会場 |
フォーラムミカサエコ 7階ホール
千代田区内神田1-18-12 内神田東誠ビル
http://fm-tohnet.com/modules/gaiyou/content0007.html
Tel：03-3291-1395
交通 JR線 神田駅 西口より 徒歩5分銀座線 神田駅 4番出口より徒歩5分／丸の内線 淡路町駅 A2・A4番出口より徒歩5分／千代田線 新御茶ノ水駅 B6番出口より徒歩6分・A4番出口より徒歩5分／新宿線 小川町駅 B6番出口より徒歩6分・A4番出口より徒歩5分
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| 申込方法 |
今回の研究会は、ナノインプリント技術研究会会員及び高分子基礎物性研究会メンバーの方が参加可能です。
会員の方には6月上旬にご案内をお送り致します。
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プ
ロ
グ
ラ
ム |
13：10−14：00
1．高分子のレオロジーの基礎
増渕 雄一（京大化研）
14：00−14：50
2．高分子成形加工の基礎
伊藤 浩志（山形大院理工）
15：05−15：55
3．高分子最表面のレオロジー
田中 敬二（九大院工）
15：55−16：45
4．表面力・共振ずり測定からわかること
栗原 和枝（東北大WPI）
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