研究会
2016年度第3回ナノインプリント技術研究会
16-3印刷・情報記録・表示研究会及び16-3光反応・電子用材料研究会共催
日程 2016年11月28日(月) 受付12:20-  12:55-16:45
13:30頃までは事務局が1Fで受付致します。13:30以降に来られる場合は、会館1Fの受付にて御名前と御所属をお伝えください。
研究会講演会 

会場
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室1
(東京都江東区青海二丁目4番7号 電話:03-3599-8001)
交 通   
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
http://www.aist.go.jp/waterfront/ 参照)

申込
方法
今回の研究会は会員の方のみ参加が可能です。
会員の皆様には10月20日にご案内を送らせて頂きました。
申込フォーム
締め切らせて頂きました。







プログラム  
12:55〜13:00 開会挨拶
13:00〜13:40
(1). 国際学会報告(MNE,NNT,MNC)
平井 義彦 (大阪府立大学)

13:40〜14:20
(2). ナノインプリント用樹脂
大久保 靖 (HTL)

14:20〜15:00
(3). UVレジストの硬化特性と離型力
白井 正充 (大阪府立大学)

15:20〜16:00
(4). 凝縮性ガスを利用する低ラフネスの光ナノインプリント技術
鈴木 健太(産業総合技術研究所)

16:00〜16:40
(5). ナノインプリントの半導体デバイス応用の最新状況と展望
東木 達彦(東芝)

16:40〜16:45 閉会挨拶


 


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