研究会
2017年第4回ナノインプリント技術研究会 
高分子学会 印刷・情報・電子用材料研究会共催
日程 2017年11月21日(火) 13:00-16:55  受付12:20-


会場
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館 11F会議室
江東区青海二丁目4番7号

交 通   
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分

申込
方法
会員のみ参加が可能です。会員の皆様へは10月18日にご案内をお送りしました。
届いていない場合は下記のE-mail アドレスへお知らせください。
11月3日(金)までに下記の申込みフォームからお申込みください。申込みフォームが使用出来ない場合はE-mail:info@nanoimprint.jpへ御名前と御所属をお知らせください。
参加受付は終了致しました。




プログラム
13:00〜13:05    開会挨拶

13:05〜13:55   
1. 国際学会報告(EIPBN, MNE, MNC, NNT)   
  平井 義彦(大阪府立大学)

13:55〜14:45   
2. ナノインプリント用樹脂のナノレオロジー計測 
  伊藤 伸太郎(名古屋大学)


14:45〜15:10
コーヒーブレイク

15:10〜16:00   
3. ナノインプリントに適したUV硬化組成物  
  猿渡 欣幸(大阪有機化学)

16:00〜16:50   
4. ロールツウロール式両面UVインプリント装置   
  芹澤 光明(東芝機械)

16:50〜16:55 閉会挨拶
 

Copyright(C) 2017 公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会 All Rights Reserved.
2017年度賛助会員