研究会
2018年第4回ナノインプリント技術研究会 
18-3印刷・情報・電子用材料研究会共催
日程 2018年11月26日(月) 13:00-16:55  受付12:20-
会場
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館 11F会議室
江東区青海二丁目4番7号

交 通   
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分

申込
方法
会員のみ参加が可能です。会員の皆様へは10月16日にご案内をお送りします。
届いていない場合は下記のE-mail アドレスへお知らせください。
11月3日(金)までに下記の申込みフォームからお申込みください。申込みフォームが使用出来ない場合はE-mail:info@nanoimprint.jpへ御名前と御所属をお知らせください。参加受付は終了致しました。




プログラム
ナノインプリント 材料、モールド設計と計測
ナノインプリント技術は、簡単なプロセスで微細構造を低コストにできるため、幅広い応用が期待されていています。これまで、ナノスケールの微細構造や3次元構造を形成する手法として、基礎的な研究が進められてきました。今回は、材料、モールド設技術と計測手法について、第一線の講師の先生方をお招きし、ご講演いただけることになりました。また、最近の技術動向について、直近に開催されたナノインプリント技術関連の国際会議についての報告もいただきます。多くの皆様のご参加をお待ちいたしております。
13:00-13:05 開会挨拶
13:00-13:55 国際学会報告(EIPBN、MNE、MNC、NNT) 
  平井 義彦 (大阪府立大学)
14:55-15:10 休 憩
13:55-14:45 NILレジストのフローとモールド設計
  廣島 洋 (産総研) 
15:10-16:00 ポーラスモールド材料と作製 
  竹井 敏
(富山大学)
16:00-16:50 ナノインデンターによる薄膜物性の評価   
  鈴木 大輔
(ブルカージャパン)
 
 

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