応用物理学会　2019年第3回ナノインプリント技術研究会

研究会	2019年第3回ナノインプリント技術研究会
日程	2019年9月6日（金）　受付12:30- (1Fで受付させて頂きます）研究会講演会　13:00-16:40
会場	産業技術総合研究所　臨海副都心センター　別館 11F会議室江東区青海二丁目４番７号交　通　　新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分（http://www.aist.go.jp/waterfront/ja/access/　参照）
申込方法	締切らせて頂きました。今回の研究会は会員の方のみ参加が可能です。会員の皆様には7月26日にご案内を送らせて頂きましたので、届いていない場合は事務局へお知らせｋださい。またご参加頂く場合は、お手数ですが下記の申込みフォームからお申込みください。申込みフォームが使用出来ない場合は、E-mail:info@nanoimprint.jpへ御名前と御所属をお知らせください。
プログラム	13:00-13:15 EIPBN報告　平井　義彦運営委員長（大阪府大） 13:15-14:05 半導体量産化に向けたナノインプリントリソグラフィの進捗　　安延　蔵　（キヤノン） 14:05-14:55 SRMによるR2Rナノインプリント　　岡田　真　（旭化成） 14:55-15:10 Coffee Break 15:10-15:40 スパッタリング薄膜メンブレンの作製プロセス開発と応用利用　　大井　秀雄（協同インターナショナル）　 15:40-16:20 精密なものづくりで先端技術に貢献する　　赤羽　優子（ティ・ディ・シー）

2018年度賛助会員