| 日時 | 平成23年3月11日（金） 13:10～16:50 | |
| 場所 | エッサム神田ホール 2F http://www.essam.co.jp/hall/access/index.html (前回会場とは別会場です。） 〒101-0045 東京都千代田区神田鍛冶町3-2-2 JR神田駅 東口 徒歩1分 東京メトロ銀座線 神田駅 3番出口 目の前 |
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| プログラム | 司会： 横尾 篤（NTT）、宮内 昭浩（日立製作所）） 13:10-13:05 古室昌徳（NEDO・ナノインプリント技術研究会運営委員長） 13:15-14:15 ナノインプリントのシュミレーション技術 平井義彦（大阪府立大学） 14:15-15:00 積層レジストによるインプリント挙動観察およびその応用 津守 不二夫（九州大学） 15:00-15:20 Coffee Break 15:20-16:05 ガラスナノインプリント 安井学（神奈川産業技術センター） 16:05-16:50 高分子の自己組織化を用いたナノパターニング技術の開発 多田 靖彦（日立製作所） |
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