日時 平成22年5月14日(金)
10:00-16:00  講演会  16:15-18:15 名刺交換会
 
 場所 品川プリンスホテルメインタワー
講演会: メインタワー26F日光 
名刺交換会(懇親会): メインタワー24F軽井沢
 
参加方法
会員・非会員無料、名刺交換会(懇親会)有料(3,000円)
今回の研究会は、非会員の方も参加可能です。参加ご希望の方は、E-mail
4月26日(月)迄に御名前と御所属、懇親会への参加の有無をお知らせください。
会員の方には、別途ご案内いたします。定員250名
 
  9:30-16:25  受付
10:00-10:05  挨拶 古室 昌徳(NEDO、ナノインプリント技術研究会運営委員長)
 
  「ナノインプリント装置・関連装置開発状況」  
  10:05 エンジニアリング・システム(株) 753KB
  10:20 SCIVAX(株)   264KB
  10:35 (株)三明 854KB
  10:50 東芝機械(株) 2435KB 1878KB
  11:05 (株)日立製作所 766KB
  11:20 (株)フジコム 2002KB
  11:35 明昌機工(株)   336KB
  11:50 リソテックジャパン(株)   324KB
講演企業 「ナノインプリント転写材料・関連装置開発状況」  
  13:00 旭硝子(株) 105KB
  13:15 ダイセル化学工業(株) 1040KB
  13:30 東京応化工業(株) 702KB
  13:45 ニッタ(株) 987KB
  14:00-14:15  Coffee Break
  「ナノインプリント金型・関連装置開発状況」  
  14:15 池上金型工業(株) 668KB
  14:30 NTT-ATナノファブリケーション(株) 82KB
  14:45 (株)協同インターナショナル 2527KB
  15:00 綜研化学(株) 567KB
  15:15 大日本印刷(株) 838KB
  15:30 HOYA(株) 1710KB
  15:45 (株)LEAP 1961KB
  (株)MEPJ 287KB
  16:15-18:15  名刺交換会   
 
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参加者 230名
名刺交換会 119名