2010年度第3回ナノインプリント技術研究会　9月14日（火）

日時	平成22年9月14日　13:00～17:00
場所	長崎大学　文教キャンパス　会場：全本-A
プログラム	「光ナノインプリント技術の開発最前線-ＣＲＥＳＴ研究成果報告を中心として-」 1イントロダクトリートーク：ＣＲＥＳＴ研究プロジェクトについて（15分）兵庫県大 ○松井真二. 2ペンタフルオロプロパンを利用する光ナノインプリント(UV-NIL in PFP)（35分）産総研1，JST-CREST2 ○廣島　洋1,2. 3UVナノインプリントのシミュレーション技術(35分)大阪府立大　院工1，JST-CREST2 ○平井義彦1,2. 4光ナノインプリントにおける界面機能分子制御（30分）東北大多元研1，JST-CREST2 ○中川　勝1,2. 休憩　14:55〜15:15. 5フッ素含有自己組織化膜の評価（35分）兵庫県立大院1，JST-CREST2，JSPS3 ○岡田　真1,2,3，松井真二1. 6光ナノインプリントモールド（35分）ＨＯＹＡ ○流川　治. 7ＵＶナノインプリント材料（35分）ダイセル化学工業1，兵庫県立大2 ○伊吉就三1，三宅弘人1，湯川隆生1，岡田　真2，松井真二2