名称 応用物理学会ナノインプリント技術研究会主催
ASNIL 2010, The 3rd Asian Symposium on Nanoimprint Lithography
第3回アジアナノインプリントリソグラフィ 
日程・場所 2010年6月30日（水）～7月2日（金） 
つくば国際会議場　
論文

展示会		 論文締切　　4月15日（木）　　4月30日（金）
Web 投稿サイト
展示会締切　5月28日
展示会のご案内　展示会申込書

（ご投稿、ご参加及びご出展につきましては、ナノインプリント技術研究会の会員・非会員は関係ございません。）
 参加費 一般事前　30,000円　一般事後（当日）　40,000円　
学生　15,000円
 委員 SNIL 2010　組織委員長
古室　昌徳 （NEDO）

実行委員長：
松井　真二 （兵庫県立大学）
実行副委員長
前田　龍太郎 （産総研）
Korea: Dr. Eung-Sung Lee (KIMM)
Taiwan: Dr. Jen-Hui Tsai (ITRI)
Singapore: Dr. Lim Khiang Wee (IMRE)

論文委員長：
平井　義彦 （大阪府立大）
論文副委員長：
廣島　洋 （産総研）
Korea: Dr.Jun-Ho Jeong (KIMM)
Taiwan: Dr. Fuh-Yu Chang (Nantional Taiwan University)
Singapore: Dr. Hong Yee Low (IMRE)

実行委員
浅川　鋼児 (東芝）
浅野　種正 （九州大）
奥野　雄太郎 （オムロン）
落合　幸徳 （東洋合成）
川口　泰秀 （旭硝子）
小久保　光典 （東芝機械）
坂井　信支 （サムスン横浜研究所）
高橋　正春（産総研）
戸所　義博 （奈良先端科学技術大学院大）
中川　勝 （東北大学）
流川　治 （ＨＯＹＡ）
蛭田　直也 （凸版印刷）
法元　盛久 （大日本印刷）
宮内　昭浩 （日立製作所）
宮本　岩男 （東京理科大）
八重樫　英民 （東京エレクトロン）
横尾　篤 （ＮＴＴ）
　(五十音順）  
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