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研究会
2015年度第5回ナノインプリント技術研究会
日程 平成28年2月19日 (金) 午後 13:00-16:50  受付: 12:25-

会場
場所: フォーラムミカサエコ 7Fホール
(JR神田駅 西口より徒歩5分)
http://fm-tohnet.com/modules/gaiyou/content0007.html
申込方法 ナノインプリント技術研究会会員は参加無料。
会員の方には1月14日にご案内をお送り致しました。届いていない場合は事務局へお知らせください。









13:00-14:00
Simprint Nanotechnologies: Software for Fast Simulation of Nanoimprint Lithography
 Hayden Taylor (Simprint Nanotechnologies and UC Berkly, USA),
  筒井 昌((株)エイチ・ティー・エル)

14:00-14:40
Liquid - Transfer Imprint
  海野 徳幸、谷口 淳(東京理科大学)

14:40-15:20
規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスにもとづくマイクロ・ナノ 階層構造の形成
  益田 秀樹、柳下 崇(首都大学東京)

15:20-15:40  休憩

15:40-16:20
地球温暖化係数の低い凝縮ガスを用いた気泡欠陥防止UVナノインプリント技術
  鈴木 健太、尹 成圓、廣島 洋((国研)産業技術総合研究所)

16:20-17:00
バイオミメティクスにおけるナノインプリントの可能性
  宮内 昭浩((株)日立製作所);


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