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研究会
2015年度第2回ナノインプリント技術研究会
日程 平成27年7月24日 (金) 午後 13:05-16:50  受付: 12:35-


会場
アリアル会議室 ANNEX A会場 
(アリアル会議室本館ではございません)
JR山手線五反田駅 
西口 徒歩1分

都営浅草線五反田駅 A1出口 徒歩1分

住所:品川区西五反田1‐3‐8 五反田御幸ビル2階
申込方法 今回の研究会は、ナノインプリント技術研究会会員のみ参加可能です。
下記のフォームからお申込みください。
会員の方には6月18日にご案内をお送り致しましたので、届いていない場合は事務局へお知らせください。










13:05-13:35
「EIPBN 2015 報告」(30分)
 岡田 真(兵庫県立大学) 
 
13:35-14:35 
「半導体製造用ナノインプリントシステム」(60分)
 伊藤 俊樹(キヤノン) 
 
14:35-14:50  Coffee Break
 
14:50-15:50
「ナノインプリントによるL/S10µm以下の銅/ポリイミド3層配線基板の作製」 (60分)
 鈴木 健太(産業技術総合研究所)
 
15:50-16:50 
「リキッドトランスファー法を用いたナノインプリント残膜制御の現状」 (60分)
 海野 徳幸(東京理科大) 


参加登録





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