研究会
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2015年度第4回ナノインプリント技術研究会
（高分子学会光反応･電子用材料研究会共催）
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| 日程 |
平成27年11月25日 （水） 午後 12:55-17:05 受付: 12:25-
会場側からの意向により、1Fで受付を行わせて頂きます。 |
会場 |
産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室１
（東京都江東区青海二丁目4番7号 電話：03-3599-8001）
交 通
新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分
東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
（http://unit.aist.go.jp/waterfront/ 参照）
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| 申込方法 |
ナノインプリント技術研究会会員は参加無料。
下記のフォームからお申込みください。
会員の方には10月上旬にご案内をお送り致します。 |
プ
ロ
グ
ラ
ム |
12:55-13:00
開会挨拶
13:00-13:55
NNT2015およびMNC2015国際会議報告
平井 義彦（阪府大院工）
13:55-14:50
濃厚ポリマーブラシによる表面特性制御と新材料創製
辻井 敬亘（京大化研）
15:10-16:05
UVナノインプリント用レジスト材料
臼杵 一幸（富士フイルム）
16:05-17:00
マイクロ流体デバイスおよびそのシステムの作製と応用
関 実（千葉大院工）
17:00-17:05
閉会挨拶 |
参加登録 |
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