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TOPIC |
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1) Processes (Thermal , UV, R to R, others)
2) Large area and high throughput approaches
3) Materials (Resist, Anti-sticking)
4) Template
5) Tools
6) Modelling, simulation and inspection
7) Related and emerging methods(soft lithography, self-assembly, others)
8) Applications (Electronics, Integrated circuit, Optics, Bio, Energy,
other micro-nano devices)
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| 会議の名称 |
和文 第19回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議
英文 The 19th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology
略称 NNT 2020 |
| 日程 |
2020年10月7日(水)～10月9日（金） |
| 場所 |
富山国際会議場 |
| 主催団体 |
公益社団法人応用物理学会 |
| 運営団体 |
公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会 |
協賛団体 |
(公社)精密工学会
(一社)電気学会
(一社)電子情報通信学会
（一社）型技術協会
（公社）日本表面科学会 （一社）プラスチック成型加工学会
（公社）高分子学会
ナノマクロ物質・デバイス・システム創製アライアンス
物質・デバイス領域共同研究拠点
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主な組織 |
組織委員長
組織副委員長
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平井 義彦（大阪府立大学）
中川 勝（東北大学）
廣島 洋 （産総研）
前田 龍太郎（Xi'an Jiaotong Univ., China)
Fuh-Yu Chang (National Taiwan Univ. of Sci. and Technol., Taiwan)
Eung-Sug Lee (KIMM, Korea)
Stella Pang (City Univ. of Hong Kong, Hong Kong)
Jinyou Shao (Xi'an Jiaotong Univ., China)
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論文委員長
論文副委員長
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谷口 淳（東京理科大学）
宮内 昭浩 （日立製作所）
水野 潤（早稲田大学） |
国際委員会
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Stephen. Chou（Princeton Univ.）:US
古室 昌徳（前KEK）
松井 真二 （前兵庫県立大）: ASIA
Lars Montelius ( Lund Univ.) :EU
Helmut Schift (Paul Scherrer Inst.): EU
Eung-Sug Lee (KIMM. Korea):ASIA
Doug Resnick (Canon Nanotechnologies): US |
実行委員長
実行副委員長 |
竹井 敏（富山県立大)
瀧 健太郎（金沢大）
多田 和宏(富山高専)
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| 論文締切 |
2020年5月29日
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| 賛助金・出展のお願い |
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| プログラム |
2020年7月下旬予定 |
参加費 |
| 参加費 |
事前参加費
事前登録締切日
9月9日 |
当日受付 |
Registration Fee
（一般参加費） |
55,000円 |
60,000円 |
Student Registration Fee
（学生参加費） |
15,000円 |
15,000円 |
Banquet Ticket for Accompany
（同伴者懇親会チケット） |
5,000円 |
5,000円 |
Technical Exhibitor for Registration Fee
（出展社参加費割引2名迄） |
30,000円 |
30,000円 |
| ご参加をご希望される方は事前申し込みが終了した為、当日会場にお越し頂き、当日登録を行ってください。 |
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事務局 |
第19回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議事務局
（有）セクレタリーアート気付
電話：03-3420-1800
FAX：03-3420-1840
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| Copyright(C) Since 2019, 19th International Conference on Nanoimprint and
Nanoprint Technology, All Rights Reserved. |
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