19th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2020)
October 7-9, Toyama International Conference Center, Japan
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TOPIC
1) Processes (Thermal , UV, R to R, others)
2) Large area and high throughput approaches
3) Materials (Resist, Anti-sticking)
4) Template
5) Tools
6) Modelling, simulation and inspection
7) Related and emerging methods(soft lithography, self-assembly, others)
8) Applications (Electronics, Integrated circuit, Optics, Bio, Energy, other micro-nano devices)




会議の名称 和文 第19回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議
英文 The 19th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology
略称 NNT 2020
日程 2020年10月7日(水)~10月9日(金)
場所 富山国際会議場
主催団体 公益社団法人応用物理学会
運営団体 公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会



協賛団体
(公社)精密工学会
(一社)電気学会
(一社)電子情報通信学会
(一社)型技術協会
(公社)日本表面科学会 (一社)プラスチック成型加工学会
(公社)高分子学会
ナノマクロ物質・デバイス・システム創製アライアンス
物質・デバイス領域共同研究拠点



主な組織
組織委員長
組織副委員長
平井 義彦(大阪府立大学)
中川 勝(東北大学)
廣島 洋 (産総研)
前田 龍太郎(Xi'an Jiaotong Univ., China)
Fuh-Yu Chang (National Taiwan Univ. of Sci. and Technol., Taiwan)
Eung-Sug Lee (KIMM, Korea)
Stella Pang (City Univ. of Hong Kong, Hong Kong)
Jinyou Shao (Xi'an Jiaotong Univ., China)
論文委員長
論文副委員長
谷口 淳(東京理科大学)
宮内 昭浩 (日立製作所)
水野 潤(早稲田大学)
国際委員会
Stephen. Chou(Princeton Univ.):US
古室 昌徳(前KEK)
松井 真二 (前兵庫県立大): ASIA
Lars Montelius ( Lund Univ.) :EU
Helmut Schift (Paul Scherrer Inst.): EU
Eung-Sug Lee (KIMM. Korea):ASIA
Doug Resnick (Canon Nanotechnologies): US
実行委員長
実行副委員長
竹井 敏(富山県立大)
瀧 健太郎(金沢大) 
多田 和宏(富山高専)
論文締切 2020年5月29日
賛助金・出展のお願い
プログラム 2020年7月下旬予定





参加費
参加費 事前参加費
事前登録締切日
9月9日
当日受付
Registration Fee
(一般参加費)
55,000円 60,000円
Student Registration Fee
(学生参加費)
15,000円 15,000円
Banquet Ticket for Accompany
(同伴者懇親会チケット)
5,000円 5,000円
Technical Exhibitor for Registration Fee
(出展社参加費割引2名迄)
30,000円 30,000円
ご参加をご希望される方は事前申し込みが終了した為、当日会場にお越し頂き、当日登録を行ってください。


事務局
第19回ナノインプリント・ナノプリント技術国際会議事務局
(有)セクレタリーアート気付
電話:03-3420-1800
FAX:03-3420-1840

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