第3回アジアンナノインプリントリソグラフィシンポジウム　ASNIL 2010, June 30-July 2, 2010, Tsukuba, Japan

会議の目的と性格　
　　ナノインプリント技術は、光デイスク製作で良く知られているホットエンボス技術を発展させ、その解像性をナノメータ寸法にまで高めた技術であり、10年ほど前、当時ミネソタ大学のS. Chouらにより、10nmレベルの微細構造を安価に再現性良く大量に作製できる技術として公表され、以来急激に研究人口が増大している分野である。現在、ナノインプリントの手法には、ホットエンボス（樹脂のガラス転移温度以上に昇温する方式）以外に、紫外光で硬化する樹脂を使うＵＶナノインプリント、ＰＤＭＳ（ポリジメチルシロキサン）のような材料を使い凹凸パターンの凸部上のインキを転写するソフトリソグラフィと呼ばれるナノプリント技術、パルスレーザーによる短時間の昇温技術を用いる方式など、様々なプロセスが提案されており、また、ナノインプリントシステムや専用の樹脂など、装置ベンダー、材料ベンダー等が立ち上がりつつあるとともに、モールド供給や、関連材料についてのビジネス展開の機運も盛り上がりつつある状況となっている。
このような装置、関連材料、プロセス技術の開発と平行して、様々な微細構造形成デバイスへの応用が検討されている。バイオ素子、半導体素子、光学素子や部品、あるいはナノ構造体作製等が試みられてきており、これらは、学術的な研究フェーズから、商品化に近いものまで多様な展開が報告されている。また、２００３年の半導体技術国際ロードマップにおいては、32nmのノードからのリソグラフィ技術の候補としてナノインプリント技術が取り上げられており、高精度位置合わせなどを考慮した装置開発の機運も盛り上がっている状況であり、ナノテクノロジーの実用化におけるインフラとして、本技術の重要性が一層認識され始めている。
当該技術に対する上記のような社会的要請に答え、バイオ、医療チップや、情報通信関連デバイスなどナノメータ構造を基礎とするデバイスを、安価に大量に供給することで、２１世紀ユビキタス社会の実現を目指すために、ナノメータ領域の極微加工技術・評価技術さらには原子を操作するアトムテクノロジーなどを骨格としたプロセス、装置、デバイスに関わる研究者及び技術者が日々努力を続けていますが、これらの社会的要請を現実のものとするためには極めて多くの課題を克服しなければならず、広く関連する分野の研究情報を交換し、総合的見地から融合の試みを推し進める必要があります。
上記のようなナノインプリント技術に関する世界的な研究開発の活発な背景の下に、２００8年に第１回の会議を韓国にて、第２回を台湾で開催、アジア圏で回り持ちし、２０１０年は日本において開催するものである。