2025年第2回ナノインプリント技術研究会

2025年第2回ナノインプリント技術研究会 (2025年5月16日(金)　午後)
日程2025年5月16日(金)　13:00-
受付　12:15～
場所KFC Hall & Rooms (両国駅） KFC Hall Annex (3F)
所在地：〒130-0015　東京都墨田区横網1-6-1　国際ファッションセンタービル
最寄駅：都営地下鉄大江戸線 両国駅（A1出口）徒歩0分 ／ JR総武線 両国駅（東口・西口）徒歩約7分
KFC Hall & Rooms Access
参加方法今回の研究会は現地のみ。会員・非会員どなたでも先着150名まで無料で参加可。但し名刺交換会は3,000円。
プログラム
13:00-13:05開会の挨拶　谷口　淳委員長（東京理科大学）
13:05-
賛助会員企業ショートプレゼンテーション
テクセンドフォトマスク(株)
オーウエル(株)
(株)協同インターナショナル
(株)エイチ・ティー・エル
(株)エリオニクス
13:50-14:40基調講演1
鈴木　健太氏（産業技術総合研究所）
14:40-15:30基調講演2
15:30-15:45休憩
15:45-16:25学生ポスターショートプレゼンテーション
「ナノレオロジー計測法を用いた光硬化性液体ナノ薄膜の重合過程の高時間分解能測定」
●LANG Lianhong 1, 伊藤伸太郎 1，福澤健二 1，中川勝 2，縄田亮 3，東直輝 1，張賀東 1（1 名古屋大学，2 東北大学，3 キヤノン株式会社）
「ARグラス実現に向けた3次元レジストマスターによるNILプロセス」
●前川永遠 1, 永松周 1, 向立昕 1, 李周姸 2, 大喜田尚紀 2, 宮尾宙 2, 大塚健祐 2, 飯田健二 2, 雨宮智宏 1, (1 東京科学大, 2 三井化学)
「4inchマスターモールドを用いたUV-NILによるシリコンフォトニクスプロセス」
●永松 周 1, 森 莉紗子 2, 藤井 恭 2, 浅井 隆宏 2, 岡田 祥 3, 渥美 裕樹 4, 塩田 大 2, 西山 伸彦 1, 雨宮 智宏 1 (1 東京科学大, 2 東京応化, 3 情報通信研, 4 産総研)
「紫外線レーザー描画で作製されるサブミクロンスケールのホール配列体シリコンモールド」
●東島大介 1, 森田伊織 2, 長谷川友子 1, 中川勝 1, (1 東北大, 2 東北大通研)
「4Dナノインプリント応用に向けたHFSMAマイクロピラーの作製」
●泉光暢, 岡智絵美，秦誠一，櫻井淳平（名古屋大学）
「温度感受性薬物送達のための微細マイクロニードル製造用低温ナノインプリントリソグラフィー」
●Goo Sen Lean¹, Mohd Fauzi Mh Busra², Nur Aliana Hidayah Mohamed³, 杉野直人⁴, 竹井敏¹（1 富山県立大学，2 マレーシア国民大学（UKM），3 マラ工科大学（UiTM），4 三光合成株式会社）
「Laser-assisted direct glass imprint (LADGI)の転写挙動」
●光田健洋 1 2, 長藤圭介1, 中尾政之1 (1 東京大、2 AGC)
「色素増感太陽電池のためのNIL作製テクスチャ上のFTO/TiO2導電性向上への試み」
●木村龍太郎，岡智絵美，秦誠一，櫻井淳平（名古屋大）
16:25-17:20学生ポスター発表
賛助会員企業ポスター展示
17:20-17:25学生ポスター賞発表、閉会の挨拶
中川　勝副委員長（東北大学）
17:30-19:30名刺交換会（懇親会）

    2025年第2回ナノインプリント技術研究会(5月16日(金))申込フォーム

    申込締切:5月2日（金）

    ・今回の研究会は現地開催のみ、非会員の方も参加出来ます。
    ・先着180名とさせて頂きます。
    ・講演会・ポスター後に、名刺交換会（懇親会）を行いますので懇親会の出欠もお知らせください。
    ・お申込み人数分を発注するので、懇親会をキャンセルされる場合は1週間前までにお知らせください。
    ・ポスター企業展示および学生ポスター発表の詳細は決まり次第、HPを更新いたします。

    一人目



    二人目



    三人目