2024年第1回ナノインプリント技術研究会

2024年第1回ナノインプリント技術研究会 (2024年2月16日(金) 13:00-16:45)
日程2024年2月16日(金)13:00-16:45
場所ビジョンセンター三越前 本館5F 502会議室 + Zoom Meeting
(ビジョンセンター東京日本橋ではございません)
〒103-0022 東京都中央区日本橋室町1-6-3山本ビル本館 5F
東京メトロ 銀座線・半蔵門線「三越前駅(A1・日本橋口)」 徒歩1分
東京メトロ 銀座線・東西線「日本橋駅(B12出口)」 徒歩5分
JR東京駅 八重洲日本橋口 徒歩9分
Access MAP
https://www.visioncenter.jp/tokyo/nihonbashi/access/
参加方法下記の申込フォームからお申込みください。賛助会員の方は複数名参加可能です。
プログラム
13:00-13:05 開会の挨拶 谷口運営委員長(東京理科大学)
 
13:05-13:55
(50分)
集積フォトニクスへ向けたUV-NILプロセス技術の開発
雨宮 智弘氏(東京工業大学)
(Zoomでのご講演)
13:55-14:45
(50分)
光電融合半導体パッケージの研究開発とナノインプリントへの期待
天野 建氏(産業技術総合研究所)
14:45-15:00 Coffee Break
15:00-15:50 
(50分)
ナノファブリケーションが拓くメタマテリアルの応用展開
金森 義明氏(東北大学)
15:50-16:40 
(50分)
UVナノインプリントリソグラフィの欠陥対策 ~ドロップ結合型レジスト及び充填プロセスの開発~
伊藤 俊樹氏(キヤノン)
16:40-16:45閉会の挨拶 中川 勝 副委員長(東北大)