2025年第4回ナノインプリント技術研究会
2025年第4回ナノインプリント技術研究会 (2025年11月21日(金) 午後) |
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日程 | 2025年11月21日(金) 13:00- 受付 12:15~ |
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場所 | KFC Hall & Rooms (両国駅)10F106 所在地:〒130-0015 東京都墨田区横網1-6-1 国際ファッションセンタービル 最寄駅:都営地下鉄大江戸線 両国駅(A1出口)徒歩0分 / JR総武線 両国駅(東口・西口)徒歩約7分 アクセス |
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参加方法 | 今回の研究会は会員のみ。現地およびZoomで聴講可能。 |
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プログラム | ||
座長 | 坂井 信支(日本サムスン) 尹 成圓(産業技術総合研究所) | |
13:00 | 開会の挨拶 谷口 淳委員長(東京理科大) | |
13:05 | Remember the past and prepare for the future: 25 years of NIL material innovations Dr. Mirko Lohse, micro resist technology, Germany |
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13:55 | Nanostructures by nanoimprint in optics for consumer electronics Dr. Theodor Nielsen, NIL Technology, Denmark |
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14:45 | 休憩 | |
15:00 | 宮尾 宙氏(三井化学(株)研究開発本部) | |
15:50 | 後藤 千絵氏 パーク・システムズ・ジャパン株式会社 | |
16:40 | 閉会の挨拶 中川 勝運営副委員長(東北大) | |
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