2025年第4回ナノインプリント技術研究会
2025年第4回ナノインプリント技術研究会 (2025年11月21日(金) 午後) |
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| 日程 | 2025年11月21日(金) 13:00- 受付 12:15～ |
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| 場所 | KFC Hall & Rooms (両国駅）10F106 所在地：〒130-0015 東京都墨田区横網1-6-1 国際ファッションセンタービル 最寄駅：都営地下鉄大江戸線 両国駅（A1出口）徒歩0分 ／ JR総武線 両国駅（東口・西口）徒歩約7分 アクセス |
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| 参加方法 | 今回の研究会は会員のみ。現地およびZoomで聴講可能。 |
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| プログラム | ||
| 座長 | 坂井 信支（日本サムスン） 尹 成圓（産業技術総合研究所） | |
| 13:00 | 開会の挨拶 谷口 淳委員長（東京理科大） | |
| 13:05 | Remember the past and prepare for the future: 25 years of NIL material innovations Dr. Mirko Lohse, micro resist technology, Germany |
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| 13:55 | Nanostructures by nanoimprint in optics for consumer electronics Dr. Theodor Nielsen, NIL Technology, Denmark |
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| 14:45 | 休憩 | |
| 15:00 | 宮尾 宙氏（三井化学（株）研究開発本部） | |
| 15:50 | 後藤 千絵氏 パーク・システムズ・ジャパン株式会社 | |
| 16:40 | 閉会の挨拶 中川 勝運営副委員長（東北大） | |
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